| イオン注入による巨大磁気抵抗（GMR）材料と製法 |
| 巨大磁気抵抗材料は、磁気ディスク装置（HDD）のヘッド（磁気センサー）などに用いられ、記録の大容量、高密度化を支えている。従来は、スパッタリングとその後のリソグラフィにより製造されて来たが、材料や形状に制約があり、製造工程が複雑であった。本発明によれば、酸化アルミニウム単結晶板に鉄イオンを注入することにより、ドライプロセスで膜形成と素子作製が同時に出来るので、高性能のヘッドが安価に製造できる。 |
| ユーザー業界 | 概 要 |
 電気・電子 |
●HDD用GMRヘッド Al2O3単結晶にイオン注入装置を用いてFeイオンを注入することにより、任意の形状構造のGMR素子を作製できる。膜形成と素子作製が一工程で完了し、磁気抵抗比（MR比）9％程度が得られる。 |
| 関連特許 | ・なし |
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| 事業実績条件 |
・実施段階：実証実験レベル ・技術導入時の技術指導の有無：比較的低い単価で技術指導が受けられる ・ノウハウ提供：一部享受できる ・ライセンス制約条件について：非独占の通常実施権のみ可能で、その他の制約無し |
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| 参考情報 | 本発明の応用が期待される磁気ディスク装置は年間約2200万台、5600億円程度生産されており、これらが市場規模の参考数字になるものと推定される。（「機械統計年報」経済産業省） |
