適用製品
ターゲット、放射性同位元素生成装置、ターゲット基板、及び放射性同位元素生成方法
目的
従来の傾斜ターゲットを用いる場合と比較して荷電粒子ビームの飛程を長くする、ターゲット、放射性同位元素生成装置、ターゲット基板、及び放射性同位元素生成方法を実現する。
効果
従来の傾斜ターゲットを用いる場合と比較して荷電粒子ビームの飛程を長くする、ターゲット、放射性同位元素生成装置、ターゲット基板、及び放射性同位元素生成方法を提供できる。
技術概要
放射性同位元素生成装置に用いられるターゲットであって、
ターゲット基板と、
ターゲット物質を含み、かつ、前記ターゲット基板の表面のうち一部を覆うターゲット層と、
前記ターゲット層の少なくとも一部を突起させた複数の突起部と、を備えるターゲット。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
