| 出願番号 |
特願2024-065034 |
| 出願日 |
2024/4/12 |
| 出願人 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 |
特開2025-161662 |
| 公開日 |
2025/10/24 |
| 発明の名称 |
円筒対称回転結晶を用いた電子ビーム集束装置、およびこれを用いた微小焦点Ｘ線管 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
円筒対称回転結晶を用いた電子ビーム集束装置、およびこれを用いた微小焦点Ｘ線管 |
| 目的 |
円筒対称回転結晶構造を有する特殊な薄膜材料を設計し、電子に対する薄膜材料の回折効果を利用して、薄膜を通過する電子を操作する。円筒対称回転結晶構造の薄膜材料をマイクロデバイスの作製に使用する。 |
| 効果 |
電子ビーム集束装置によれば、薄板平面状構造の円筒対称回転結晶の結晶方向を適宜に選択することで、結晶方向に応じた異なる機能を有する電子操作装置を製造することができる。
微小焦点Ｘ線管によれば、円筒対称回転結晶により金属ターゲットの表面層に形成される菊池回折パターンの輝点が生成される領域にて、入射電子ビームをＸ線に変換させて、大略Ｘ線点光源としてＸ線を被写体に投影する構造としているので、従来の電磁レンズと比較して各段に小さな距離の焦点距離でＸ線を被写体に投影する構造とできる。 |
技術概要
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球状結晶の中心（Ｏ）から、北極方向（Ｚ）に対して垂直面方向に沿って切り出した薄板平面状構造の円筒対称回転結晶であって、前記薄板平面状構造の厚みは５ｎｍ以上１ｍｍ以下である円筒対称回転結晶を有する回転結晶膜を有し、
入射電子ビームが前記円筒対称回転結晶を通過して、得られる強い散乱点が前記円筒対称回転結晶の膜厚よりも離れた焦点位置（ｆ）で一致することを特徴とする電子ビーム集束装置。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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