高い磁気異方性と小さいダンピング定数を両立させたL10−FePt薄膜及びその製造方法

開放特許情報番号:L2026000886 開放特許情報登録日:2026/6/2 最新更新日:2026/6/2

基本情報
出願番号
公開番号
出願日
2024/4/22
公開日
2025/11/4
出願人
国立研究開発法人物質・材料研究機構
権利化状況
権利化前
発明の名称
高い磁気異方性と小さいダンピング定数を両立させたL10−FePt薄膜及びその製造方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
材料・素材の製造
適用製品
高い磁気異方性と小さいダンピング定数を両立させたL1↓0−FePt薄膜及びその製造方法
目的
高い磁気異方性と小さいダンピング定数を両立させたL1↓0−FePt薄膜の製造方法を提供する。
効果
L1↓0−FePt薄膜によれば、下地材料となる単結晶基板と製膜温度を適切に選択することで、ダンピング定数は0.018−0.044の範囲で大きく制御できることが明らかとなった。
また、L1↓0−FePt薄膜の製造方法によれば、L1↓0−FePt薄膜のダンピング定数を低減させるために製膜温度や下地材料を変化させることで微細構造の制御でき、最適なミスフィット転移の数のL1↓0−FePt薄膜が得られる。
技術概要
酸化マグネシウム(MgO)又はチタン酸ストロンチウム(SrTiO↓3)よりなる単結晶基板と、
この単結晶基板に積層されたFePt薄膜と、
を備えるL1↓0−FePt薄膜であって、
ダンピング定数は0.018以上0.044以下の範囲にあり、
磁気異方性は3.0以上7.0T以下の範囲に収まる、
L1↓0−FePt薄膜。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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