欠陥特性評価装置
- 開放特許情報番号
- L2026000731
- 開放特許情報登録日
- 2026/4/16
- 最新更新日
- 2026/4/16
基本情報
| 出願番号 | 特願2011-153900 |
|---|---|
| 出願日 | 2011/7/12 |
| 出願人 | 兵庫県公立大学法人 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2013/1/31 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 公立大学法人兵庫県立大学 |
| 発明の名称 | 欠陥特性評価装置 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造 |
| 適用製品 | 欠陥特性評価装置 |
| 目的 | 反射型サンプル基板上の欠陥の特性を、非破壊かつ高精度に評価可能な欠陥特性評価装置を提供する。 |
| 効果 | 微小欠陥を露光波長で評価するため、実効的な特性評価が非破壊で可能である。
反射型サンプル基板上の欠陥の特性を、非破壊かつ高精度に評価することができる。 |
技術概要) |
反射型サンプル基板上の被検欠陥に対して、実際の露光で利用する波長のコヒーレント光を、該反射型サンプル基板上の被検欠陥と略同一のサイズに集光する集光手段と、
上記反射型サンプル基板上に上記集光手段により集光された上記コヒーレント光を被検パタン領域に照射する照射手段と、 上記照射手段により照射された被検パタン領域からの回折光を２次元的に受光する受光手段と、 上記受光手段による受光結果である画像情報を記録する記録手段と、 上記記録手段により記録された画像情報から、上記被検欠陥の反射振幅と位相分布を反復計算により導出する導出手段とを備え、 上記照射手段は、上記被検パタン領域をスキャンさせながら、上記反射型サンプル基板上の被検欠陥と略同一のサイズに集光された上記コヒーレント光を複数回照射することを特徴とする欠陥特性評価装置。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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