撮影装置および撮影方法

開放特許情報番号

L2026000391

開放特許情報登録日

2026/2/20

最新更新日

2026/2/20

基本情報

出願番号	特願2024-088055
出願日	2024/5/30
出願人	東京都公立大学法人
公開番号	特開2025-180608
公開日	2025/12/11
発明の名称	撮影装置および撮影方法
技術分野	食品・バイオ、化学・薬品
機能	機械・部品の製造
適用製品	撮影装置および撮影方法
目的	撮影を短時間で行うとともに、従来技術に比べてエラストグラムの精度を向上させる。
効果	第１のＭＲ強度画像に映り込む基準模様と第２のＭＲ強度画像に映り込む基準模様とに基づいて、第２のＭＲ強度画像の歪みを算出し、取得されたＭＲ強度・位相画像における歪みを、算出した歪みで補正し、歪みが補正された複数のＭＲ位相画像に基づいて、ＭＲエラストグラフィ画像を作成することで、撮影をこれまでと同様に短時間で行うとともに、従来技術に比べてエラストグラムの精度を向上させることができる。 歪みの主方向が縦方向の場合でも横方向の場合でも歪みを算出できる。
技術概要	静磁場と、傾斜磁場と、交番磁場と、を被検査部に対して発生させる磁場発生装置と、 被検査部に振動を付与する振動付与部材と、 傾斜磁場を印加する時期に応じて取得された電磁波に基づいて、プロトンの分布に応じたＭＲ強度画像を取得するＭＲ強度画像の取得手段と、 電磁波信号の位相に応じたＭＲ位相画像を取得するＭＲ位相画像の取得手段と、 ＭＲエラストグラフィ画像を作成するＭＲＥ画像作成手段と、 を備え、 第１の撮影法に基づいて磁場を発生させる際に、予め定められた歪検知用の基準模様に応じた磁場を追加して、第１のＭＲ強度画像を取得し、 第１の撮影法よりも高速でＭＲ強度画像およびＭＲ位相画像を取得可能かつＭＲ強度画像およびＭＲ位相画像における歪みが大きな第２の撮影法に基づいて磁場発生装置で磁場を発生させる際に基準模様に応じた磁場を追加して、第２のＭＲ強度画像を取得し、 第１、第２のＭＲ強度画像に映り込む基準模様に基づいて、第２の撮影法における歪みを算出し、 第２の撮影法で基準模様が追加されない状態での被検査部のＭＲ位相画像を複数回取得し、 歪みを、算出した歪みで補正し、 ＭＲエラストグラフィ画像を作成する 撮影装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	東京都公立大学法人

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】