フッ素含有非晶質炭素膜、及びその製造方法

開放特許情報番号：L2026000367 開放特許情報登録日：2026/2/17 最新更新日：2026/2/17

基本情報

出願番号

公開番号

出願日

2023/5/8

公開日

2024/11/20

出願人

慶應義塾

権利化状況

権利化前

発明の名称

フッ素含有非晶質炭素膜、及びその製造方法

開放特許情報

技術分野

情報・通信金属材料化学・薬品

機能

材料・素材の製造

適用製品

フッ素含有非晶質炭素膜、その製造方法

目的

ハードコート、反射防止、及び防汚の特性を合わせ持つフッ素含有非晶質炭素膜とその製造方法を提供する。

効果

ハードコート、反射防止、及び防汚の特性を合わせ持つフッ素含有非晶質炭素膜とその製造方法が実現される。

技術概要

フッ素含有非晶質炭素膜であって、
炭素と、フッ素と、酸素からなる単層膜として構成され、
膜厚方向での平均フッ素含有率が３０原子％以上４０原子％以下、膜厚方向での平均酸素含有率が５原子％以上２０原子％以下であり、残りが炭素原子である、
フッ素含有非晶質炭素膜。

イメージ図

実施実績　　　：

無

許諾実績　：

無

特許権譲渡　　：

否

特許権実施許諾：

可

登録者情報

登録者名称

その他の情報