半導体装置

開放特許情報番号
L2026000364
開放特許情報登録日
2026/2/17
最新更新日
2026/2/17

基本情報

出願番号 特願2023-126950
出願日 2023/8/3
出願人 慶應義塾
公開番号 特開2025-022409
公開日 2025/2/14
発明の名称 半導体装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 半導体装置
目的 ゼーベック素子を含む半導体装置のコストを削減し、製造効率を向上する。
効果 ゼーベック素子を含む半導体装置の製造効率を向上できる。
技術概要
半導体基板に形成された相補型電界効果トランジスタと、
前記半導体基板に形成されたゼーベック素子と、
を備える、半導体装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 学校法人慶應義塾

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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