半導体素子

開放特許情報番号
L2026000303
開放特許情報登録日
2026/2/10
最新更新日
2026/2/10

基本情報

出願番号 特願2025-029909
出願日 2021/5/24
出願人 国立大学法人福井大学
公開番号 特開2025-071355
公開日 2025/5/2
発明の名称 半導体素子
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 評価方法、評価システム、半導体素子の製造方法、半導体素子
目的 半導体素子における電極と半導体との界面における電界分布を精度良く評価しやすい評価方法等を提供する。
効果 半導体素子における電極と半導体との界面における電界分布を精度良く評価しやすい評価方法等が提供される。
技術概要
半導体素子における電極と半導体との界面に対して、フランツ・ケルディッシュ効果が発現し得る電界を印加する電界印加ステップと、
前記電界を印加した状態において、前記界面に対して、前記半導体のバンドギャップよりも小さいエネルギーを有しかつ前記電極の径よりも小さいビーム径を有する所定の光を照射しながら、前記界面を少なくとも1次元的に走査する第1走査ステップと、
前記第1走査ステップを行いながら、前記半導体素子を流れる光電流を計測することにより、前記界面における電界分布を評価する第1評価ステップと、を含む、
評価方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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