真空装置及び真空処理体の製造方法

基本情報

出願番号	特願2023-502054
出願日	2021/10/6
出願人	国立大学法人　東京大学
公開番号	WO2022/180914
公開日	2022/9/1
発明の名称	真空装置及び真空処理体の製造方法
技術分野	金属材料、機械・加工
機能	機械・部品の製造、その他
適用製品	真空装置及び真空処理体の製造方法
目的	コストや強度等を満たしつつ、真空下での残留ガスを低減させた真空装置及び真空処理体の製造方法を提供する。
効果	コストや強度等を満たしつつ、真空下での残留ガスを低減させた真空装置が得られる。
技術概要	自身の内部空間を所定の真空に保持し、該真空下で処理される対象物を保持する保持部が内部に配置された真空保持容器と、前記真空保持容器に連通しつつ、又は非連通で接続される他部材と、を有する真空装置であって、前記真空保持容器はＢｅ－Ｃｕ合金からなることを特徴とする真空装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者名称	国立大学法人東京大学