磁気光学イメージングシステム及び磁気光学イメージング方法

開放特許情報番号
L2026000273
開放特許情報登録日
2026/2/5
最新更新日
2026/2/5

基本情報

出願番号 特願2024-565720
出願日 2023/11/30
出願人 国立大学法人 東京大学
公開番号 WO2024/135271
公開日 2024/6/27
発明の名称 磁気光学イメージングシステム及び磁気光学イメージング方法
技術分野 情報・通信、電気・電子
機能 制御・ソフトウェア、その他
適用製品 磁気光学イメージングシステム及び磁気光学イメージング方法
目的 磁性体の磁壁移動のダイナミクスを可視化する磁気光学イメージングシステム及び磁気光学イメージング方法を提供する。
効果 磁壁移動のダイナミクスを観察することが可能となる。
技術概要
磁性層を有する試料に照射するための光パルスを出力する光源と、
前記磁性層の磁壁を移動させるための電流パルスを生成し、前記電流パルスを前記試料に向けて注入する電流パルス発生器と、
前記光パルスと前記電流パルスとを同期させ、少なくとも前記試料への前記電流パルスの注入開始から所定時間後に前記光源から前記光パルスを出力させるタイミングコントローラと、
前記光源から出力された前記光パルスから特定の偏光方向の直線偏光を通過させるポラライザと、
前記直線偏光を前記磁性層に集光させるレンズと、
前記直線偏光のシングルショット照射による前記磁性層からの反射光又は透過光を検出して前記磁性層の画像データを取得するイメージセンサを有する撮影部と、
を備える磁気光学イメージングシステム。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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