印刷方法、電子デバイスの製造方法および多孔質部材

基本情報

出願番号	特願2024-524852
出願日	2023/5/29
出願人	国立大学法人　東京大学
公開番号	WO2023/234261
公開日	2023/12/7
登録番号	特許第7776180号
特許権者	国立大学法人　東京大学
発明の名称	印刷方法および電子デバイスの製造方法
技術分野	機械・加工、化学・薬品
機能	材料・素材の製造、その他
適用製品	印刷方法、電子デバイスの製造方法および多孔質部材
目的	所望の印刷パターンを簡便に作製することが可能な印刷方法、電子デバイスの製造方法および多孔質部材を提供する。
効果	所望の印刷パターンを簡便に作製することを可能とする。
技術概要	空孔部にインクが充填された空孔部材を準備する部材準備工程と、パターン領域が表面に形成された印刷対象物を準備する対象物準備工程と、前記印刷対象物の表面において前記空孔部材を掃引することにより、前記空孔部に充填されたインクを前記パターン領域に付着させる付着工程と、を含み、前記部材準備工程は、前記空孔部材の空孔部の内表面に分子修飾膜を形成する膜形成工程を含む、印刷方法。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者名称	国立大学法人東京大学