酸化チタン粒子、その製造方法、磁気メモリ及び電荷蓄積型メモリ

開放特許情報番号
L2026000208
開放特許情報登録日
2026/1/29
最新更新日
2026/1/29

基本情報

出願番号 特願2010-541303
出願日 2009/11/26
出願人 国立大学法人 東京大学
公開番号 WO2010/064575
公開日 2010/6/10
登録番号 特許第5549939号
特許権者 国立大学法人 東京大学
発明の名称 酸化チタン粒子、その製造方法、磁気メモリ及び電荷蓄積型メモリ
技術分野 化学・薬品、電気・電子
機能 材料・素材の製造、その他
適用製品 酸化チタン粒子、その製造方法、磁気メモリ及び電荷蓄積型メモリ
目的 従来にない新規な物性を発現し得る酸化チタン粒子及びその製造方法と、それを用いた磁気メモリ及び電荷蓄積型メモリを提供する。
効果 従来にない新規な物性を発現し得る酸化チタン粒子
また、酸化チタン粒子を磁性材料として用いた磁気メモリ
また、酸化チタン粒子を電荷蓄積材料として用いた電荷蓄積型メモリを提供できる。
技術概要
Ti↓3O↓5の組成を有し、0〜800Kの温度領域で常磁性金属の状態を維持するナノサイズのTi↓3O↓5粒子からなる
ことを特徴とする酸化チタン粒子。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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