光ファイバ特性測定装置及び光ファイバ特性測定方法
- 開放特許情報番号
- L2026000165
- 開放特許情報登録日
- 2026/1/26
- 最新更新日
- 2026/1/26
基本情報
| 出願番号 | 特願2016-023525 |
|---|---|
| 出願日 | 2016/2/10 |
| 出願人 | 国立大学法人 東京大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2016/8/18 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人 東京大学 |
| 発明の名称 | 光ファイバ特性測定装置及び光ファイバ特性測定方法 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造、その他 |
| 適用製品 | 光ファイバ特性測定装置及び光ファイバ特性測定方法 |
| 目的 | 被測定光ファイバの片端から光を入射するだけで、当該被測定光ファイバの特性分布を短時間に測定でき、なおかつ雑音を除去してSN比が向上したブリルアン周波数シフト又はブリルアンダイナミックグレーティングシフトを生成し得る光ファイバ特性測定装置及び光ファイバ特性測定方法を提供する。 |
| 効果 | 被測定光ファイバの片端から光を入射するだけで、当該被測定光ファイバの特性分布を短時間に測定でき、なおかつ雑音を除去してSN比が向上したブリルアン周波数シフトを生成し得る光ファイバ特性測定装置及び光ファイバ特性測定方法を実現できる。 |
技術概要![]() |
周波数変調された連続光を出力光として出力する光源部と、
光源部からの出力光を、被測定光ファイバの片端からポンプ光として入射させるポンプ光生成手段と、 光源部からの出力光を、参照光として生成する参照光生成手段と、 参照光、ポンプ光、又は被測定光ファイバ内のブリルアン散乱により生じた反射光のいずれかに対して、所定の変調を施す期間と、変調を施さない期間とを変調周期1/f↓L(f↓Lはロックイン周波数)で繰り返す周期的変調を与える光変調手段と、 被測定光ファイバ内のブリルアン散乱により生じた反射光と、参照光とを干渉させ、出力光の周波数変調を利用して、被測定光ファイバ内のある位置で発生した散乱による反射光を干渉出力として選択的に抽出する検出手段と、 検出手段からの干渉出力の周波数特性を解析する周波数解析手段と、 ロックイン周波数f↓Lを基準に周波数解析手段からの出力から、直流ないし低周波数成分を抽出し、直流ないし低周波数成分から、位置でのブリルアン周波数シフトを検出し、被測定光ファイバの特性を測定するロックイン検出手段と を備えたことを特徴とする光ファイバ特性測定装置。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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