非破壊評価装置及び画像処理方法
- 開放特許情報番号
- L2025001784
- 開放特許情報登録日
- 2026/1/6
- 最新更新日
- 2026/1/6
基本情報
| 出願番号 | 特願2023-120207 |
|---|---|
| 出願日 | 2023/7/24 |
| 出願人 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2025/2/5 |
| 発明の名称 | 非破壊評価装置及び画像処理方法 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造、その他 |
| 適用製品 | 非破壊評価装置及び画像処理方法 |
| 目的 | 赤外線サーモグラフィによる非破壊評価装置及び画像処理方法を提供する。 |
| 効果 | 赤外線ヒーターによる試料の不均一な加熱や試料の表面粗さの影響を低減することができ、例えば試料の剥離欠陥を詳細に観察できる。 |
技術概要) |
試料を加熱する赤外線ヒーターと赤外線ヒーターに加熱用の電力をオン／オフ制御して供給するパルス電源部と試料を前記オン／オフ制御周期よりも短いフレーム間隔で撮像する赤外線カメラとパルス電源部のオン／オフ制御の開始タイミングを赤外線カメラに通知する同期撮像部と、を備えるロックインサーモグラフィシステムに用いられる非破壊評価装置で、
非破壊評価装置は、 オン／オフ制御のオン開始タイミングで赤外線カメラにより撮像された、オン期間内の撮像フレームを時系列で格納してあるオン期間撮像フレーム記録部と、 オン／オフ制御のオフ開始タイミングで赤外線カメラにより撮像された、オフ期間内の撮像フレームを時系列で格納してあるオフ期間撮像フレーム記録部と、 オン期間撮像フレームと、オフ期間撮像フレームとを、複数のオン／オフ制御周期について平均化処理する平均化画像処理部と、 平均化画像処理部で平均化処理されたオン期間撮像フレームとオフ期間撮像フレームに対して、オン／オフ制御の開始タイミングからの経過時間に応じて減算処理する画像減算処理部と、 を備え、試料の減算処理された平均化処理済画像を用いて、試料の剥離欠陥を観察する非破壊評価装置。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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