| 出願番号 |
特願2019-000901 |
| 出願日 |
2019/1/7 |
| 出願人 |
国立大学法人 東京大学 |
| 公開番号 |
特開2020-112582 |
| 公開日 |
2020/7/27 |
| 登録番号 |
特許第7281064号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 東京大学 |
| 発明の名称 |
光照射装置、イメージング装置、及びレーザー加工装置 |
| 技術分野 |
情報・通信、機械・加工 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
光照射装置、並びにイメージング装置及びレーザー加工装置 |
| 目的 |
光放射点の個数に合わせて光ビームパターンの分解能を高めることができる光照射装置、並びに、これを組み込んだイメージング装置及びレーザー加工装置を提供する。 |
| 効果 |
複数の導光部に設けた複数の射出ポートが最小冗長間隔で配列されているので、射出ポートの数が増大するのを抑えつつ、複数の射出ポートから射出させる光を合わせた光ビームパターンの分解能を高めることができる。 |
技術概要
 |
光をそれぞれ通過させる複数の導光部と、
前記複数の導光部に設けた複数の射出ポートから射出させる光の位相を調整する位相調整部とを備え、
前記複数の射出ポートは、最小冗長間隔で配列され、
前記複数の射出ポートからの光の相互の干渉により一つの波面を形成する、光照射装置。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)