| 出願番号 |
特願2021-561320 |
| 出願日 |
2020/11/16 |
| 出願人 |
国立大学法人 東京大学 |
| 公開番号 |
WO2021/106662 |
| 公開日 |
2021/6/3 |
| 登録番号 |
特許第7693210号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 東京大学 |
| 発明の名称 |
高度に均一なゲル及びその製造方法 |
| 技術分野 |
有機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
高度に均一なゲル |
| 目的 |
高度に秩序のあるネットワークを備えた高分子ゲル及びこれを製造するための簡単かつ普遍的(universal)な方法を提供する。 |
| 効果 |
複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーが重合することにより調製されるポリマーを含むゲルの製造方法であって、複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーを、複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーのうちの隣接する分岐モノマー又は分岐ポリマーの鎖が重なり合う濃度以上の濃度で良溶媒に混合すること、及び前記複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーを重合してゲルを得ること、を含む、方法が提供される。 |
技術概要
 |
複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーが架橋することにより調製されるポリマーと、該複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーに対する良溶媒とを含み、ゲル中の前記ポリマーは、前記複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーのうちの隣り合う分岐モノマー又は分岐ポリマーの鎖が互いに重なり合う濃度以上の濃度で架橋されている、ゲルであって、
遅延時間0.001〜0.1(ms)の範囲にわたるゲルの、ゲル化点における時間相関関数から、ゲル化に要した時間の10倍の時間後の時間相関関数までの変化率が±10％以内であるか、及び／又は、
前記複数の分岐モノマー又は分岐ポリマーが架橋することにより調製されるポリマーの種類及びゲル中の濃度が同一であって、かつ良溶媒の種類及びゲル中の濃度が同一であるゲルの架橋前の組成物に相当する高分子溶液と比較した場合に、未架橋の高分子溶液と前記ゲルとの間の静的レーザー光散乱(SLS)のプロファイルにおける0.005Å↑(-1)以下での散乱強度I(q)の最大変化率が−50%〜＋100%の範囲内である、
ゲル。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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