パターニングされた有機膜の製造方法、パターニングされた有機膜の製造装置、それにより作製された有機半導体デバイス、及び有機半導体デバイスを含む集積回路

開放特許情報番号
L2025001653
開放特許情報登録日
2025/12/16
最新更新日
2025/12/16

基本情報

出願番号 特願2022-507265
出願日 2021/3/10
出願人 国立大学法人 東京大学
公開番号 WO2021/182545
公開日 2021/9/16
登録番号 特許第7683939号
特許権者 国立大学法人 東京大学
発明の名称 パターニングされた有機膜の製造方法、パターニングされた有機膜の製造装置、それにより作製された有機半導体デバイス、及び有機半導体デバイスを含む集積回路
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 パターニングされた有機膜の製造方法及び製造装置、有機半導体デバイス及び有機半導体デバイスを含む集積回路
目的 有機半導体膜にダメージを与えずにパターニングできること、下地の基板や絶縁膜等にダメージを与えないこと、幅広い種類の有機材料、特に有機半導体材料に適用可能であること、及び低コストであることが可能なパターニング手法を提供する。
効果 低コストで、有機膜及びその下地に有機溶媒やプラズマ等によるダメージを与えることなく、有機膜のパターニングを行うことができる。また、凹凸を利用した物理的なパターニング手法であるため、幅広い種類の有機材料、特に有機半導体材料に対して適用可能である。
技術概要
塗布法を用いて、親水性且つ非水溶性の第1の基板上に、疎水性の有機膜を形成すること、
前記第1の基板上に形成された有機膜を、凸部及び凹部を有するスタンプの前記凸部に押し付けること、
前記第1の基板と前記有機膜との界面に水または水溶液を適用して、前記凸部に前記有機膜を転写すること、並びに
前記凸部に転写された有機膜を第2の基板に押し付けて、前記第2の基板に前記有機膜を転写してパターニングされた有機膜を得ること、
を含み、
前記有機膜及び前記第2の基板のうち少なくとも一方は有機半導体である、
パターニングされた有機膜の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
Copyright © 2025 INPIT