ホスト分子の包接能の変更方法、包接体の製造方法、包接体、単結晶、複合体、及び標的分子捕捉用キット
- 開放特許情報番号
- L2025001636
- 開放特許情報登録日
- 2025/12/15
- 最新更新日
- 2025/12/15
基本情報
| 出願番号 | 特願2022-021240 |
|---|---|
| 出願日 | 2022/2/15 |
| 出願人 | 国立大学法人 東京大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2022/9/6 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人 東京大学 |
| 発明の名称 | ホスト分子の包接能の変更方法、包接体の製造方法、包接体、単結晶、複合体、及び標的分子捕捉用キット |
| 技術分野 | 機械・加工 |
| 機能 | 材料・素材の製造、その他 |
| 適用製品 | ホスト分子の包接能の変更方法、包接体の製造方法、包接体、単結晶、複合体、及び標的分子捕捉用キット |
| 目的 | 簡便な方法によりホスト分子の包接能を変化させることで、従来包接させることが困難であった標的分子を、ホスト分子の内部空間内に取り込ませる方法を提供する。
すなわち、ホスト分子の包接能の変更方法、包接体の製造方法、包接体、単結晶、複合体、及び標的分子捕捉用キット、を提供する。 |
| 効果 | ホスト分子の包接能の変更方法、包接体の製造方法、包接体、単結晶、複合体、及び標的分子捕捉用キット、が提供される。 |
技術概要) |
ホスト分子の包接能の変更方法であって、
前記ホスト分子が、内部空間と、１又は２以上の開口部と、を有し、分子全体の電荷が、正電荷、負電荷、又は無電荷の分子であり、 下記の要件１、２及び３を満たす蓋状分子と、前記ホスト分子と、前記ホスト分子の内部空間内に包接させる予定の分子（標的分子）とを、同一系内に共存させ、前記ホスト分子の開口部の少なくとも１つを前記蓋状分子で塞ぐステップを有することを特徴とする、ホスト分子の包接能の変更方法。 （要件１）蓋状分子全体の電荷が、正電荷、負電荷、又は無電荷（ただし、前記ホスト分子全体の電荷が正電荷のときは正電荷ではなく、前記ホスト分子全体の電荷が負電荷のときは負電荷ではなく、前記ホスト分子全体の電荷が無電荷のときは無電荷ではない。）である。 （要件２）前記ホスト分子の開口部と親和的相互作用をして、前記ホスト分子の開口部を塞ぐことが可能な分子である。 （要件３）前記標的分子と親和的相互作用が可能な分子である。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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