遷移金属カルコゲニド薄膜の配向性制御方法、製造方法、製造装置、及び、フレキシブル基板
- 開放特許情報番号
- L2025001581
- 開放特許情報登録日
- 2025/12/8
- 最新更新日
- 2025/12/8
基本情報
| 出願番号 | 特願2024-216453 |
|---|---|
| 出願日 | 2024/12/11 |
| 出願人 | 国立研究開発法人農業・食品産業技術総合研究機構 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2025/7/2 |
| 発明の名称 | 遷移金属カルコゲニド薄膜の配向性制御方法、製造方法、製造装置、及び、フレキシブル基板 |
| 技術分野 | 金属材料 |
| 機能 | 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア |
| 適用製品 | 遷移金属カルコゲニド薄膜の配向性制御方法、製造方法、製造装置、及び、フレキシブル基板 |
| 目的 | 成膜条件の簡易な制御により、遷移金属カルコゲニド層の配向方向を制御可能な技術を実現する。 |
| 効果 | 成膜条件の簡易な制御により、遷移金属カルコゲニド層の配向方向を制御可能な技術を実現することができる。 |
技術概要![]() |
基体の表面の遷移金属層に対して、単位時間当たりに供給されるカルコゲン材料の量を制御することにより、前記基体の表面に形成される遷移金属カルコゲニド層の配向方向を制御するステップを包含する、遷移金属カルコゲニド薄膜の配向性制御方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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