ニオブシリサイド基合金およびその製造方法

開放特許情報番号
L2025001496
開放特許情報登録日
2025/11/28
最新更新日
2025/11/28

基本情報

出願番号 特願2023-030156
出願日 2023/2/28
出願人 国立大学法人 東京大学
公開番号 特開2024-122558
公開日 2024/9/9
発明の名称 ニオブシリサイド基合金およびその製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 ニオブシリサイド基合金およびその製造方法
目的 優れた高温強度を有するニオブシリサイド基合金およびその製造方法を提供する。
効果 優れた高温強度を有するニオブシリサイド基合金およびその製造方法を提供できる。
技術概要
Siを15〜35at%、Zr、TaおよびAlの群から選択される1つ以上の元素を2〜30at%含み、残部が実質的にNbおよび不純物からなる合金を1200℃〜1500℃の温度で48時間以上熱処理し、熱処理後合金を生成する熱処理工程と、
前記熱処理後合金に含まれるNb母相においてニオブシリサイドが析出するように、前記熱処理後合金を冷却する冷却工程と、を含む、
ニオブシリサイド基合金の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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