積層基板の製造支援方法、積層基板の製造方法、故障原因特定方法、積層基板の製造支援プログラム及び積層基板
- 開放特許情報番号
- L2025001459
- 開放特許情報登録日
- 2025/11/28
- 最新更新日
- 2025/11/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2012-040741 |
|---|---|
| 出願日 | 2012/2/27 |
| 出願人 | 国立大学法人山形大学、株式会社半一、ペガサスソフトウェア株式会社 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2013/9/5 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人山形大学 |
| 発明の名称 | 積層基板の製造支援方法、積層基板の製造方法、故障原因特定方法、積層基板の製造支援プログラム及び積層基板 |
| 技術分野 | 電気・電子 |
| 機能 | 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア |
| 適用製品 | 積層基板の製造支援方法、積層基板の製造方法、故障原因特定方法、積層基板の製造支援プログラム及び積層基板 |
| 目的 | 光吸収層における光吸収量を直接的に評価し、当該光吸収量が最適又は準最適となるような積層基板の膜厚及び材料を得ることができる積層基板の製造支援方法及び積層基板の製造支援プログラムを提供する。
また、光吸収量が最適又は準最適となるような積層基板の製造方法を提供する。ならびに、故障原因特定方法を提供する。 さらに、光吸収量が最適又は準最適となるような膜厚及び材料からなる積層基板を提供する。 |
| 効果 | 光吸収層における光吸収量を直接的に評価し、当該光吸収量が最適又は準最適となるような積層基板の膜厚及び材料を得ることができる積層基板の製造支援方法及び積層基板の製造支援プログラムが提供される。
また、光吸収量が最適又は準最適となるような積層基板の製造方法が提供される。ならびに、故障原因特定方法が提供される。 さらに、光吸収量が最適又は準最適となるような膜厚及び材料からなる積層基板が提供される。 |
技術概要) |
基板と、複数の材料からなる第１積層及び第２積層と、光を吸収する光吸収層とを備え、前記第１積層は前記基板の一方面に設けられ、前記第２積層は前記基板の他方面に設けられ、前記光吸収層は前記第２積層上に設けられた積層基板の製造支援方法であって、
前記第１積層及び前記第２積層に用いる材料、並びに前記材料について光の波長に依存する屈折率及び消衰係数を用いて、前記第１積層側から光が入射した際の前記第１積層及び前記第２積層の反射率及び透過率をマトリクス法により求め、 前記基板の膜厚から当該基板の内部透過率を計算し、 前記第１積層及び前記第２積層の反射率及び透過率並びに前記内部透過率から、前記第１積層側に入射した光が前記光吸収層に吸収される光吸収量を波長ごとに計算し、該光吸収量を積分して総光吸収量を求め、 前記総光吸収量が最大となる前記第１積層及び前記第２積層の材料及び膜厚を求める ことを特徴とする積層基板の製造支援方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | 国立大学法人山形大学 |
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その他の情報
| 関連特許 |
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