導電性高分子複合体の製造方法

開放特許情報番号
L2025001389
開放特許情報登録日
2025/11/18
最新更新日
2025/11/18

基本情報

出願番号 特願2013-249849
出願日 2013/12/3
出願人 国立大学法人山形大学
公開番号 特開2015-105374
公開日 2015/6/8
登録番号 特許第6281862号
特許権者 国立大学法人山形大学
発明の名称 導電性高分子複合体の製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 導電性高分子複合体の製造方法
目的 導電性高分子の導電性と成形加工性、機械的強度を両立させる技術、特に導電性高分子の導電性を失うことなく、成形加工性と機械的特性を飛躍的に向上させることができる硬化性導電性高分子組成物及び導電性高分子複合体を提供する。
効果 導電性高分子に対してラジカル反応性基を有する有機酸を使用することにより、硬化性導電性高分子組成物を提供することが可能となる。
また、組成物中に多量に添加されるドーパント自体が反応性を有し、硬化成分としてポリマーネットワークを形成することで、機械的な特性の大幅な向上が可能となる。
更に、ラジカル重合の反応を用いることで、導電性高分子、ラジカル反応性基を有する有機酸及び存在する場合はラジカル開始剤を含む組成物の反応を制御することが可能となり、組成物の保存安定性が良好となる。
技術概要
(1)導電性高分子、ラジカル反応性基を有する有機酸、及びラジカル開始剤を含む混合物を調製する工程、
(2)前記混合物を加熱することにより、変形可能な固体とする工程、
(3)前記固体を光及び/又は熱にさらして、前記有機酸中のラジカル反応性基を重合させて硬化体を得る工程
を含み、
前記導電性高分子がポリアニリン又はポリアニリン誘導体であり、
前記ラジカル反応性基を有する有機酸が2−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−メチル−2−プロペン−1−スルホン酸、アリルスルホン酸、又はビニルスルホン酸である、
導電性高分子複合体の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 国立大学法人山形大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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