金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法
- 開放特許情報番号
- L2025001278
- 開放特許情報登録日
- 2025/11/6
- 最新更新日
- 2025/11/6
基本情報
| 出願番号 | 特願2019-554285 |
|---|---|
| 出願日 | 2018/11/15 |
| 出願人 | 国立大学法人山形大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2019/5/23 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人山形大学 |
| 発明の名称 | 金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法 |
| 技術分野 | 金属材料 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | 金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法 |
| 目的 | 温度条件や粉末材料に依存せず、原料ガスの利用効率の向上を図ると共に、必要に応じて微粒子同士の凝集を防止して微粒子表面に金属酸化物薄膜を確実に形成することができる金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法を提供する。 |
| 効果 | 温度条件や粉末材料に依存せず、原料ガスの利用効率の向上を図ると共に、必要に応じて微粒子同士の凝集を防止して微粒子表面に金属酸化物薄膜を確実に形成することが可能な金属酸化物薄膜形成装置及び金属酸化物薄膜形成方法を提供することができる。 |
技術概要) |
微粒子の表面に金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物薄膜形成装置であって、
排気手段が接続された真空容器と、 前記真空容器内に設けられ、円筒形状で水平方向に又は水平方向から傾斜して配置された中心軸を回転中心として回転可能であり、端面の一方に開口を有する処理容器と、 前記真空容器内に酸化ガスを供給する酸化ガス供給手段と、 前記処理容器の開口から内方に挿入され、有機金属ガスを供給する有機金属ガス供給手段と、を具備し、さらに、 （１）前記有機金属ガス供給手段により、有機金属ガスを被処理物である微粒子が載置された前記処理容器内に供給する有機金属ガス供給工程と、 （２）前記排気手段により、前記真空容器内のガスを排気する第１のガス排気工程と、 （３）前記酸化ガス供給手段により、前記真空容器内に酸化ガスを供給する酸化ガス供給工程と、 （４）前記排気手段により、前記真空容器内のガスを排気する第２のガス排気工程と、 を実行し、前記（１）から前記（４）の一連の工程を微粒子の表面に形成する金属酸化物薄膜の膜厚に応じて所定回数繰り返す制御手段を具備することを特徴とする金属酸化物薄膜形成装置。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【有】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | 国立大学法人山形大学 |
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その他の情報
| 関連特許 |
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