非線形光学用積層体の製造方法
- 開放特許情報番号
- L2025001228
- 開放特許情報登録日
- 2025/10/28
- 最新更新日
- 2025/10/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2024-012656 |
|---|---|
| 出願日 | 2024/1/31 |
| 出願人 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2025/8/13 |
| 発明の名称 | 非線形光学用積層体の製造方法 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | 非線形光学用積層体の製造方法 |
| 目的 | 非線形光学用積層体を歩留まり良く製造することが可能である、非線形光学用積層体の製造方法を提供する。 |
| 効果 | 非線形光学用積層体を歩留まり良く製造することが可能である、非線形光学用積層体の製造方法を提供することが可能になる。 |
技術概要) |
目的基板と、前記目的基板上に位置する電気光学ポリマー層と、を備える、非線形光学用積層体の製造方法であって、
支持基板、光吸収層、第１電極、電気光学ポリマー層、および第２電極がこの順で積層された、第１積層体を準備する第１工程と、 前記第１積層体の前記電気光学ポリマー層に対しポーリング処理を実行する、第２工程と、 前記第１積層体から前記第２電極を除去することにより、第２積層体を得る、第３工程と、 前記目的基板を、前記第２積層体における前記第２電極と接していた面上に積層することにより、第３積層体を得る、第４工程と、 前記第３積層体から、前記支持基板をレーザー剥離することで、前記支持基板を除去することにより、第４積層体を得る、第５工程と、 前記第４積層体から、前記光吸収層および前記第１電極を除去することにより、非線形光学用積層体を得る、第６工程と、をこの順で含む、非線形光学用積層体の製造方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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