温度センサおよびその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2025001215
- 開放特許情報登録日
- 2025/10/28
- 最新更新日
- 2025/10/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2018-072017 |
|---|---|
| 出願日 | 2018/4/4 |
| 出願人 | 国立大学法人山形大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2019/10/24 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人山形大学 |
| 発明の名称 | 温度センサおよびその製造方法 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造 |
| 適用製品 | 温度センサ |
| 目的 | 薄くて柔軟な基板上に塗布により薄くて柔軟な感温体を形成し、生体や物体への貼付に優れ、温度の経時的な変化を精度よくモニタリングするのに好適な温度センサを提供する。 |
| 効果 | 生体や物体に貼付して温度の経時的な変化を精度よくモニタリングすることができ、有機半導体を用いるフレキシブルエレクトロニクスとの一体化も容易にする。 |
技術概要![]() |
プラスチックを含む可撓性の基材と、
前記基材上にパターン形成された第一電極層と、 前記基材上に前記第一電極層から離間してパターン形成された第二電極層と、 平面視で前記第一電極層と前記第二電極層とに重畳する半導体高分子層と、 前記半導体高分子層の少なくとも一部が覆われる酸化セルロース高分子層と、 から構成される温度センサ。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | 国立大学法人山形大学 |
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その他の情報
| 関連特許 |
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