| 出願番号 |
特願2019-194828 |
| 出願日 |
2019/10/26 |
| 出願人 |
国立大学法人山形大学 |
| 公開番号 |
特開2021-066642 |
| 公開日 |
2021/4/30 |
| 登録番号 |
特許第7376077号 |
| 特許権者 |
国立大学法人山形大学 |
| 発明の名称 |
炭素質構造体の形成方法及び炭素質構造体を有する基体 |
| 技術分野 |
化学・薬品、無機材料、機械・加工 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
炭素質構造体の形成方法、及び炭素質構造体を有する基体 |
| 目的 |
特にＣＮＴ等の微小炭素体含む分散液を用いて炭素質構造体を形成する際の形成方法において、新規な炭素質構造体の形成方法を提供すると共に、当該形成方法により形成された炭素質構造体を有する基体を提供する。 |
| 効果 |
簡便且つ効率的に炭素質構造体を形成可能である。また、特に下部に所定の構造が形成されることで凹凸を有する表面や、曲面に対しても良好に炭素質構造体を形成することが可能となる。 |
技術概要
 |
基体表面に炭素質構造体を形成する炭素質構造体の形成方法であって、
微小炭素体と分散媒を含む微小炭素体分散液が、当該分散媒を保持可能な多孔質膜と基体の間の少なくとも一部を充填してなる積層体を形成する積層体形成工程と、
上記多孔質膜及び／又は基体を介して上記分散媒の少なくとも一部を積層体外に取り出す分散媒除去工程を含むことを特徴とする炭素質構造体の形成方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)