粒子線入射装置

開放特許情報番号
L2025000738
開放特許情報登録日
2025/6/18
最新更新日
2025/6/18

基本情報

出願番号 特願2022-195070
出願日 2022/12/6
出願人 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
公開番号 特開2024-081435
公開日 2024/6/18
発明の名称 粒子線入射装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 粒子線入射装置
目的 簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供する。
効果 簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供できる。
技術概要
円型加速器にイオンビームを入射する粒子線入射装置において、
イオンを生成するイオン源と、
前記イオン源から入射されたイオンビームを前記円型加速器まで導くビームダクトと、
前記ビームダクト内における前記イオンビームの通過領域に設けられ、前記イオンビームを散乱させる薄膜本体を有する薄膜部を備えた
粒子線入射装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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