粒子線入射装置
- 開放特許情報番号
- L2025000738
- 開放特許情報登録日
- 2025/6/18
- 最新更新日
- 2025/6/18
基本情報
出願番号 | 特願2022-195070 |
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出願日 | 2022/12/6 |
出願人 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 |
公開番号 | |
公開日 | 2024/6/18 |
発明の名称 | 粒子線入射装置 |
技術分野 | 電気・電子 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 粒子線入射装置 |
目的 | 簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供する。 |
効果 | 簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供できる。 |
技術概要![]() |
円型加速器にイオンビームを入射する粒子線入射装置において、
イオンを生成するイオン源と、 前記イオン源から入射されたイオンビームを前記円型加速器まで導くビームダクトと、 前記ビームダクト内における前記イオンビームの通過領域に設けられ、前記イオンビームを散乱させる薄膜本体を有する薄膜部を備えた 粒子線入射装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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