粒子線入射装置

基本情報

出願番号	特願2022-195070
出願日	2022/12/6
出願人	国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
公開番号	特開2024-081435
公開日	2024/6/18
発明の名称	粒子線入射装置
技術分野	電気・電子
機能	機械・部品の製造
適用製品	粒子線入射装置
目的	簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供する。
効果	簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供できる。
技術概要	円型加速器にイオンビームを入射する粒子線入射装置において、イオンを生成するイオン源と、前記イオン源から入射されたイオンビームを前記円型加速器まで導くビームダクトと、前記ビームダクト内における前記イオンビームの通過領域に設けられ、前記イオンビームを散乱させる薄膜本体を有する薄膜部を備えた粒子線入射装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者名称	国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構