ＭＴＦ測定装置およびそのプログラム
- 開放特許情報番号
- L2025000583
- 開放特許情報登録日
- 2025/5/23
- 最新更新日
- 2025/5/23
基本情報
| 出願番号 | 特願2021-112956 |
|---|---|
| 出願日 | 2021/7/7 |
| 出願人 | 日本放送協会 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2023/1/20 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 日本放送協会 |
| 発明の名称 | ＭＴＦ測定装置およびそのプログラム |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア |
| 適用製品 | ＭＴＦ測定装置およびそのプログラム |
| 目的 | 投影軸に画素を投影する際に周期的な位相のズレをなくし、確度および精度の高いＭＴＦを測定することが可能なＭＴＦ測定装置およびそのプログラムを提供する。 |
| 効果 | ＲＯＩ画像の画素を投影軸に投影する際の周期的な位相のズレをなくすことができる。
これによって、高い確度と精度でＭＴＦを測定することができる。 |
技術概要) |
境界でコントラストの異なるチャートを用いて、撮像系の空間周波数特性を表すＭＴＦを測定するＭＴＦ測定装置であって、
前記撮像系が前記チャートを撮像したチャート画像から、前記境界を含んだ画像であるＲＯＩ画像を抽出するＲＯＩ画像抽出手段と、 前記ＲＯＩ画像から、前記境界であるエッジの傾きを検出するエッジ傾き検出手段と、 前記エッジの傾きをθとしたとき、１／ｓｉｎθの整数倍、または、１／ｓｉｎθの整数分の１倍を可変オーバーサンプリング比とし、前記可変オーバーサンプリング比の逆数を、前記ＲＯＩ画像の画素を投影する投影軸のビン幅として算出するビン幅算出手段と、 前記ＲＯＩ画像の画素位置と、前記エッジに対して垂直となる前記投影軸のビンの位置とを対応付ける投影位置対応付け手段と、 前記ＲＯＩ画像の各画素値を、前記投影位置対応付け手段で画素位置に対応付けられたビンごとに平均化して、エッジプロファイルを生成するエッジプロファイル生成手段と、 前記エッジプロファイルからＭＴＦを算出する周波数特性算出手段と、 を備えることを特徴とするＭＴＦ測定装置。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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