積層型半導体装置及びその製造方法

開放特許情報番号
L2025000507
開放特許情報登録日
2025/5/9
最新更新日
2025/5/9

基本情報

出願番号 特願2021-017555
出願日 2021/2/5
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2022-120579
公開日 2022/8/18
登録番号 特許第7565814号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 積層型半導体装置及びその製造方法
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 機械・部品の製造、その他
適用製品 積層型半導体装置及びその製造方法
目的 製造工程における工程数の短縮や歩留まりの向上を図るとともに、表面がフラットで特性の良好な積層型半導体装置及びその製造方法を提供する。
効果 積層型半導体装置及びその製造方法によれば、製造工程における工程数の短縮や歩留まりの向上を図ることができ、また、良好な素子特性を実現することができる。
技術概要
複数の信号処理回路層を積層してなる積層型半導体装置であって、
前記信号処理回路層は、信号処理回路の端部に入出力パッドを備え、
前記信号処理回路層は、前記入出力パッドの位置が重ならないように、上側の前記信号処理回路が下側の前記信号処理回路に対して平面方向に1ブロックずつシフトして積層されており、
最も上側の前記信号処理回路層の表面から各信号処理回路層の前記入出力パッドに達する貫通孔に埋設されてなる接続電極を備えることを特徴とする、積層型半導体装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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