| 出願番号 |
特願2023-576639 |
| 出願日 |
2022/11/16 |
| 出願人 |
国立研究開発法人科学技術振興機構 |
| 公開番号 |
WO2023/145203 |
| 公開日 |
2023/8/3 |
| 発明の名称 |
高分子化合物、反応性化合物、高分子架橋剤、高分子変性剤、架橋部形成方法、高分子修飾方法、高分子化合物の重合方法および分解方法 |
| 技術分野 |
有機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造、その他 |
| 適用製品 |
高分子化合物、反応性化合物、高分子架橋剤、高分子変性剤、架橋部形成方法、高分子修飾方法、高分子化合物の重合方法および分解方法 |
| 目的 |
安価で、そして環境光下において安定で、かつ、光加工可能な高分子化合物、反応性化合物、高分子架橋剤、高分子変性剤、架橋部形成方法、高分子修飾方法、高分子化合物の重合方法および分解方法を提供する。 |
| 効果 |
安価で、そして環境光下において安定で、かつ、光加工可能な高分子化合物、反応性化合物、高分子架橋剤、高分子変性剤、架橋部形成方法、高分子修飾方法、高分子化合物の重合方法および分解方法を提供することができる。 |
技術概要
 |
縮合多環式芳香環基が有する共役系炭素原子と、ケイ素原子とが、光照射と酸との協働作用により結合開裂可能な形で結合してなる構造を含む、高分子化合物。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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