薄膜密着強度評価方法及び薄膜密着強度評価装置

開放特許情報番号

L2024002220

開放特許情報登録日

2024/12/24

最新更新日

2024/12/24

基本情報

出願番号	特願2022-178435
出願日	2022/11/7
出願人	学校法人　中央大学
公開番号	特開2024-067973
公開日	2024/5/17
発明の名称	薄膜密着強度評価方法及び薄膜密着強度評価装置
技術分野	情報・通信、電気・電子
機能	制御・ソフトウェア
適用製品	薄膜密着強度評価方法及び薄膜密着強度評価装置
目的	密着強度の評価を適切に行える薄膜密着強度評価方法及び薄膜密着強度評価装置を提供する。
効果	密着強度の評価を適切に行える薄膜密着強度評価方法及び薄膜密着強度評価装置を提供することができる。
技術概要	基板上に薄膜が形成された薄膜形成基板における当該薄膜と当該基板との密着強度を評価する薄膜密着強度評価方法であって、 圧力伝播層の面上に、レーザー光を受光して衝撃波を発生するエネルギー吸収層を形成する吸収層形成工程、 前記圧力伝播層における、前記エネルギー吸収層に対向する側とは反対側の面上に接着層を形成する接着層形成工程、 前記接着層における前記圧力伝播層に対向する側とは反対側の面上に、前記薄膜形成基板における前記基板の表面を接着する接着工程、 前記薄膜における、前記基板に対向する側とは反対側の面上に犠牲層を形成する犠牲層形成工程、 前記エネルギー吸収層にレーザー光を照射する照射工程、及び、 前記照射工程で生じた衝撃波を前記圧力伝播層、前記接着層及び前記薄膜形成基板を介して前記犠牲層に伝播させる伝播工程を含み、 前記伝播工程では、前記犠牲層における前記薄膜に対向する側とは反対側の面で前記衝撃波を反射させて膨張波を生じさせ、当該膨張波を前記薄膜に作用させる薄膜密着強度評価方法。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	中央大学

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】