ホログラフィック光学素子製造装置及びホログラフィック光学素子製造方法

開放特許情報番号

L2024002206

開放特許情報登録日

2024/12/19

最新更新日

2024/12/19

基本情報

出願番号	特願2024-049429
出願日	2020/5/11
出願人	国立大学法人宇都宮大学
公開番号	特開2024-075748
公開日	2024/6/4
発明の名称	ホログラフィック光学素子製造装置及びホログラフィック光学素子製造方法
技術分野	情報・通信
機能	機械・部品の製造
適用製品	ホログラフィック光学素子、ホログラフィック光学素子製造装置及びホログラフィック光学素子製造方法
目的	可視光の全域において目的の機能を実現可能であり、且つ、低コストにて製造可能なホログラフィック光学素子及びその製造装置等を提供する。
効果	可視光の全域において目的の機能を実現可能なホログラフィック光学素子を低コストに提供することができる。
技術概要	単一波長の露光用ソースビームを出射する光源と、 ソースビームを信号光及び参照光に分岐させるビームスプリッタと、 信号光を、第１光路を介して記録媒体に照射させる信号光照射手段と、 参照光を、第２光路を介して記録媒体に照射させることにより、信号光照射手段によって照射される信号光と参照光を干渉させて、干渉縞を発生させ、発生した干渉縞を記録媒体に露光させる参照光照射手段と、 を有し、 信号光照射手段が、 記録媒体に対する信号光の照射角度を調整する信号光照射角調整手段を有するとともに、 参照光照射手段が、 記録媒体に対する参照光の照射角度を調整する参照光照射角調整手段を有し、 信号光照射角調整手段が、 発生させる干渉縞の間隔に応じて、信号光の照射角度を調整するとともに、 参照光照射角調整手段が、 調整され信号光の照射角度に応じて、参照光の記録媒体に対する照射角度を調整することにより干渉縞の間隔を変化させつつ、各々、間隔の異なる複数の干渉縞を発生させて、発生させた複数の干渉縞を記録媒体に多重露光させるホログラフィック光学素子製造装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	宇都宮大学

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】