適用製品
脊髄後角浅層に穿刺して、神経活動における電位を計測し神経活動記録等を取るための神経活動計測デバイスとその製造方法及び計測方法
目的
脊髄後角浅層において正確かつ容易に神経活動を計測し記録することができる神経活動計測デバイスとその製造方法及び計測方法を提供する。
効果
脊髄後角浅層における神経活動を低侵襲で容易且つ正確に計測し、長期間継続的に記録することができる。従って、これまで熟練の技術が必要であった脊髄後角浅層における神経活動の測定を比較的容易に可能となり、より多くの研究者による計測が可能となり、痛み等の神経活動のメカニズムの解明や低減に大きく寄与する。
技術概要
フィルム基板と、フィルム基板上に形成された導電体のリード部と、このリード部の端部に前記リード部と交差する方向に結晶成長させた半導体によるプローブが形成され、
前記プローブは、その先端部の直径が５μｍ以下に形成されて前記リード部と電気的に接続され、基端から先端までの長さが、計測対象の動物の脊髄に前記プローブを穿刺した状態で、脊髄後角浅層に前記先端部が位置する長さに形成され、
前記プローブの基端部が位置した前記フィルム基板が、前記脊髄後角浅層に前記プローブを穿刺する際のストッパになることを特徴とする神経活動計測デバイス。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
