位相符号化パターン生成方法、および位相符号化パターンを用いる光分布生成装置

開放特許情報番号

L2024002030

開放特許情報登録日

2024/11/6

最新更新日

2024/11/6

基本情報

出願番号	特願2020-138966
出願日	2020/8/19
出願人	日本放送協会
公開番号	特開2022-034984
公開日	2022/3/4
登録番号	特許第7514696号
特許権者	日本放送協会
発明の名称	位相符号化パターン生成方法、および位相符号化パターンを用いる光分布生成装置
技術分野	情報・通信
機能	制御・ソフトウェア
適用製品	計算機合成ホログラム、位相ホログラム、立体ディスプレイ、ＡＲ／ＶＲディスプレイ、顕微鏡、光通信、レーザー加工等に用いられる、位相符号化パターン生成方法、および位相符号化パターンを用いる光分布生成装置
目的	装置の小型化および光利用効率の向上を図ることができるとともに、生成した光が、空間光変調器の不完全性に起因する不要な０次光と重なるのを回避することができ、かつ空間的な変化が大きい複素振幅分布であっても目的の複素振幅分布に対するずれ量を大幅に低減することができる位相符号化パターン生成方法、および位相符号化パターンを用いる光分布生成装置を提供する。
効果	装置の小型化および光利用効率の向上を図ることができるとともに、生成した光が、空間光変調器の不完全性に起因する不要な０次光と重なるのを回避することができ、かつ空間的な変化が大きい複素振幅分布であっても目的の複素振幅に対するずれ量を大幅に低減させることができる。
技術概要	生成したい所望の複素振幅分布の位相分布φ(x,y)と、 生成したい所望の複素振幅分布の振幅分布により決定づけられる位相分布θ(x,y)と、 離散的かつ階段状に変化する位相キャリアφ↓ｃ(x,y)と、 を加減算し、 この加減算した結果に、前記生成したい所望の複素振幅分布の振幅分布により決定づけられる位相分布θ(x,y)を乗算する、演算処理を行って、 位相符号化パターンを生成することを特徴とする位相符号化パターン生成方法。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	一般財団法人　ＮＨＫ財団

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】