適用製品
高周波誘導熱プラズマの発生装置及びそれを用いたプラズマ処理方法
目的
１ＭＨｚ以下の高周波電力を用いた場合においても、あるいは減圧状態においても、効率よく長尺のプラズマを発生することができるプラズマ発生装置およびプラズマ処理方法を提供する。
効果
ガス流通管内にプラズマ発生ガスを流した状態で誘導熱プラズマを発生させる高周波電源を有し、前記接続角θ１及びθ２は４５±１０度であるので、チャンバ内に保持させた基材の表面上にて両側の開口端から射出された熱プラズマが重なり合い、この基材表面に均一なプラズマ領域が形成される。
技術概要
チャンバと、
両側の開口端を前記チャンバに連通させたガス流通管とを備え、
前記ガス流通管は第一直線部と、前記第一直線部の両側にそれぞれ屈曲部を介して内側方向所定の接続角θ１，θ２にて接続した第二直線部と第三直線部の端部に前記開口端を有し、
前記ガス流通管の両側面に対向配置した一対の空心コイルと、
前記空心コイルに高周波電力を供給することで、前記ガス流通管内にプラズマ発生ガスを流した状態で誘導熱プラズマを発生させる高周波電源を有し、
前記接続角θ１及びθ２は４５±１０度であることを特徴とするプラズマ発生装置。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
