分析方法、及び分析システム

開放特許情報番号
L2024001779
開放特許情報登録日
2024/9/25
最新更新日
2024/9/25

基本情報

出願番号 特願2022-163205
出願日 2022/10/11
出願人 国立大学法人金沢大学
公開番号 特開2024-056380
公開日 2024/4/23
発明の名称 分析方法、及び分析システム
技術分野 情報・通信
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 分析方法、及び分析システムに関し、特にランダムなマスクパターンを用いて対象物を分析する技術
目的 対象物の分析の高速化を図ることのできる分析方法、及び分析システムを提供する。
効果 対象物の分析の高速化を図ることができる、という利点がある。
技術概要
光源が発する光を位相変調し、
変調した前記光を散乱体に通過させることでスペックルパターンに変換し、前記スペックルパターンを対象物に出力し、
前記対象物からの反射光を処理することで前記反射光に基づく時間領域信号を取得し、
取得した前記時間領域信号に基づいて、前記対象物を分析する、
分析方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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