光学測定装置、および光学測定方法

開放特許情報番号:L2024001429 開放特許情報登録日:2024/6/7 最新更新日:2025/12/23

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2022/3/3
公開日
2023/9/14
出願人
国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
特許権者
国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
光学測定装置、および光学測定方法
開放特許情報
技術分野
情報・通信
機能
機械・部品の製造
適用製品
光学測定装置および光学測定方法
目的
対象物の高速変化の測定精度を向上させた光学測定装置および光学測定方法を提供する。
効果
対象物の高速変化の測定精度を向上させた光学測定装置および光学測定方法を提供することができる。
技術概要
対象物の時間的変化を光学的に測定する光学測定装置であって、
偏光が入射される第1の位相板と、
前記対象物を挟んで、前記第1の位相板と対向し、前記第1の位相板から出射され、かつ前記対象物を通過した偏光が入射される第2の位相板と、
前記第2の位相板から出射される偏光が入射される検光子と、
を備え、
前記第1の位相板は、前記入射された偏光を第1、第2の偏光へと分解して、所定の時間差で、出射し、
前記第2の位相板は、前記第1、第2の偏光間の前記所定の時間差を解消して、前記第1、第2の偏光を合成した合成偏光を出射する、光学測定装置。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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