照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システム

開放特許情報番号

L2024001427

開放特許情報登録日

2024/6/7

最新更新日

2024/6/7

基本情報

出願番号	特願2022-038578
出願日	2022/3/11
出願人	国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
公開番号	特開2023-132956
公開日	2023/9/22
発明の名称	照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システム
技術分野	食品・バイオ、化学・薬品
機能	制御・ソフトウェア、その他
適用製品	例えば標的に荷電粒子を照射する荷電粒子照射システムの照射計画を作成するような照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システム
目的	正常組織へのダメージを低く保ちながら、標的の治療効果を高めることができる照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムを提供する。
効果	正常組織のダメージを低く保ちながら、標的の治療効果を高めることができる照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システムを提供できる。
技術概要	所定のイオン種の荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定する照射計画装置であって、 １つの前記標的に対する前記照射パラメータを、複数種類のイオン種の前記荷電粒子を組み合わせて決定する、複合照射パラメータ決定手段を備え、 前記複合照射パラメータ決定手段は、 前記標的内の少なくとも一部の部位に対して前記複数種類のイオン種の前記荷電粒子を照射するよう決定する照射イオン種決定処理と、 前記照射イオン種決定処理により決定した前記複数種類のイオン種のうち線エネルギ付与が小さいイオン種の前記荷電粒子を先に照射するよう照射順序を決定する照射順序決定処理とを実行する 照射計画装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】