硬化物の製造方法、組成物、硬化物、及び、立体構造体
- 開放特許情報番号
- L2024001274
- 開放特許情報登録日
- 2024/5/23
- 最新更新日
- 2024/5/23
基本情報
出願番号 | 特願2021-184201 |
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出願日 | 2021/11/11 |
出願人 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
公開番号 | |
公開日 | 2023/5/23 |
発明の名称 | 硬化物の製造方法、組成物、硬化物、及び、立体構造体 |
技術分野 | 有機材料 |
機能 | 材料・素材の製造 |
適用製品 | 硬化物の製造方法、組成物、硬化物、及び、立体構造体 |
目的 | 硬化物中において、より細かく機械特性の差(コントラスト)をつけた硬化物を製造できる、硬化物の製造方法を提供することを課題とする。また、本発明は、組成物、硬化物、及び、立体構造体を提供する。 |
効果 | 硬化物中において、より細かく機械特性の差(コントラスト)をつけた硬化物を製造できる、硬化物の製造方法を提供できる。また、本発明は、組成物、硬化物、及び、立体構造体も提供できる。 |
技術概要 |
組成物を硬化させて、硬化物を得る、硬化物の製造方法であって、
分子内にジスルフィド結合、ジセレニド結合、及び、ジテルリド結合からなる群より選択される少なくとも1種の動的共有結合を有するモノマーAと、 分子内に少なくとも2個以上のエチレン性不飽和基をモノマーBと、 硬化剤と、を含む組成物に、パターン状に光照射することと、前記組成物を加熱することと、を含み、 前記モノマーA、及び、前記硬化剤は、互いに反応し得る一対の硬化性基の一方を、それぞれの分子内に少なくとも2個以上有し、 前記一対の硬化性基は以下の(a)〜(d): (a)グリシジル基、並びに、それに対する、ヒドロキシ基、カルボキシ基、及び、酸無水物基からなる群より選択される少なくとも1種の基、 (b)ヒドロキシ基、並びに、それに対する、カルボキシ基、及び、酸無水物基からなる群より選択される少なくとも1種の基、 (c)イソシアネート基、及び、それに対する、ヒドロキシ基、 (d)フェノール基、又は、フリル基、及び、それに対する、ホルミル基、 からなる群より選択される、硬化物の製造方法。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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