多芯薄膜超伝導線材、および、その製造方法
- 開放特許情報番号
- L2024001273
- 開放特許情報登録日
- 2024/5/23
- 最新更新日
- 2024/5/23
基本情報
出願番号 | 特願2021-189496 |
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出願日 | 2021/11/22 |
出願人 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
公開番号 | |
公開日 | 2023/6/1 |
発明の名称 | 多芯薄膜超伝導線材、および、その製造方法 |
技術分野 | 電気・電子、化学・薬品、無機材料 |
機能 | 材料・素材の製造 |
適用製品 | 多芯薄膜超伝導線材、および、その製造方法 |
目的 | 後加工なしに製造可能な多芯薄膜超伝導線材、および、その製造方法を提供する。 |
効果 | 超伝導性を示し、超伝導電流が流れやすい領域と、超伝導電流が流れにくい領域とが繰り返され、多芯薄膜超伝導線材として機能し得る。 |
技術概要 |
基板と、
前記基板上に位置する複数の非超伝導層と、 前記基板と前記複数の非超伝導層との上に位置する希土類系酸化物薄膜と を備え、 前記希土類系酸化物薄膜は、ドープまたはアンドープの希土類元素(RE)、バリウム(Ba)、銅(Cu)および酸素(O)を含有し、一般式REBa↓2Cu↓3O↓(7−d)(ここで、0≦d≦0.8)を満たし、 前記基板は、前記希土類系酸化物薄膜の配向基板である、多芯薄膜超伝導線材。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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