X線吸収分光と蛍光X線分光分析を同時に実施するための方法およびシステム

開放特許情報番号
L2024001227
開放特許情報登録日
2024/5/20
最新更新日
2024/5/20

基本情報

出願番号 特願2023-005830
出願日 2023/1/18
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2023-107744
公開日 2023/8/3
発明の名称 X線吸収分光と蛍光X線分光分析を同時に実施するための方法およびシステム
技術分野 情報・通信
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 透過配置におけるX線吸収分光分析(XAS)及び蛍光配置における蛍光X線分光分析(XRF)を同時に行うことを可能にするための方法およびシステム
目的 従来の小型汎用型X線吸収分光装置と同じ程度の設備でありながら、透過配置におけるX線吸収分光分析と蛍光配置における蛍光X線分析とを同時に行うことで、サンプルのX線照射位置を厳密に一致させて、動的な変化の過程を観察することができる方法およびシステムを提供する。
効果 従来の小型汎用型X線吸収分光装置と同じ程度の設備でありながら、透過配置におけるX線吸収分光分析と蛍光配置における蛍光X線分析とを同時に行うことでき、サンプルのX線照射位置をX線吸収分光と蛍光X線分光分析とで厳密に一致させて、測定対象物を観察することができる。
技術概要
透過配置におけるX線吸収分光と蛍光配置における蛍光X線分光分析を同時に実施するための方法であって、
元素の吸収端に対応するエネルギーよりも高く且つ前記エネルギーを含むエネルギー帯域幅を有するX線ビームを対象物に照射することと、
空間分解X線検出装置を用いて、3eVよりも高いエネルギー分解能で、前記吸収端を含むエネルギー帯域幅に亘って、前記対象物からX線吸収スペクトルを取得することと、
蛍光X線検出装置を用いて、前記対象物から散乱したX線を検出して蛍光X線スペクトルを取得することと、
を備える方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2024 INPIT