| 出願番号 |
特願2023-019238 |
| 出願日 |
2023/2/10 |
| 出願人 |
国立大学法人 熊本大学 |
| 公開番号 |
特開2023-156982 |
| 公開日 |
2023/10/25 |
| 発明の名称 |
カチオンドープ酸化グラフェン混合導電性膜の製造方法、重水素選択透過膜の製造方法、重水素選択透過膜及び重水素ガスの製造方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品、機械・加工、有機材料 |
| 機能 |
検査・検出 |
| 適用製品 |
室温（約２５℃）にてプロトン導電性及び電子伝導性の両者を発揮する混合導電性酸化グラフェンシートの製造方法並びに重水素選択透過膜の製造方法、重水素選択透過膜及び当該重水素選択透過膜を利用した重水素ガスの製造方法 |
| 目的 |
再現性がよく、実用化に適する混合導電性酸化グラフェン膜の製造方法を提供する。 |
| 効果 |
再現性がよく、実用化に適する混合導電性酸化グラフェン膜の製造方法が提供される。 |
技術概要
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電子伝導性及びプロトン導電性を有するカチオンドープ酸化グラフェン混合導電性膜の製造方法であって、
カチオンをドープした酸化グラフェン膜を大気中１００℃以上１３０℃未満の範囲内の一定温度で所定時間加熱して部分還元した後、室温で放冷し、次いで、アルゴン雰囲気下、相対湿度９０％以上で加湿することを特徴とする製造方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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