基板加熱装置および基板処理システム
- 開放特許情報番号
- L2024000971
- 開放特許情報登録日
- 2024/5/1
- 最新更新日
- 2024/5/1
基本情報
| 出願番号 | 特願2020-024697 | ||||||
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| 出願日 | 2020/2/17 | ||||||
| 出願人 | 東京応化工業株式会社 | ||||||
| 公開番号 | |||||||
| 公開日 | 2021/9/2 | ||||||
| 登録番号 | |||||||
| 特許権者 | 東京応化工業株式会社 | ||||||
| 発明の名称 | 基板加熱装置および基板処理システム | ||||||
| 技術分野 | 機械・加工、有機材料 | ||||||
| 機能 | 加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造 | ||||||
| 適用製品 | 基板加熱装置 | ||||||
| 目的 | 基板加熱装置のチャンバの内面の昇華物付着抑制 | ||||||
| 効果 | チャンバの天面及び基板加熱部への昇華物の付着抑制 | ||||||
| 技術概要 |
基板を収容可能なチャンバと、基板の一方面側に配置される赤外線での基板加熱部と、基板と基板加熱部との間に設けられ、赤外線を透過し、かつ、基板加熱時の昇華物を遮る複数の遮蔽板と、を含む基板加熱装置により、チャンバの天面及び基板加熱部への昇華物の付着を抑制する。 | ||||||
| 実施実績 | 【無】 | ||||||
| 許諾実績 | 【無】 | ||||||
| 特許権譲渡 | 【可】
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| 特許権実施許諾 | 【可】
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登録者情報
| 登録者名称 | |
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技術供与
| ノウハウ提供レベル |
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その他の情報
| 関連特許 |
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