基板加熱装置および基板処理システム

開放特許情報番号
L2024000970
開放特許情報登録日
2024/5/1
最新更新日
2024/5/1

基本情報

出願番号 特願2020-024347
出願日 2020/2/17
出願人 東京応化工業株式会社
公開番号 特開2021-128122
公開日 2021/9/2
登録番号 特許第7474600号
特許権者 東京応化工業株式会社
発明の名称 基板加熱装置および基板処理システム
技術分野 機械・加工、有機材料
機能 加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造
適用製品 基板加熱装置
目的 基板加熱装置の検知部劣化抑制及びに、検知部の変色や劣化に伴う応答性の変化抑制
効果 基板加熱装置の検知部劣化抑制及びに、検知部の変色や劣化に伴う応答性の変化抑制
技術概要
 
基板を収容可能なチャンバと、基板の一方面側に配置され、赤外線での基板加熱部と、検知部と、基板収容空間内の検知部を保護し赤外線を吸収する保護部と、を含む基板加熱装置により、検知部の劣化を抑制し、検知部の変色や劣化に伴う応答性の変化を抑制する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
希望譲渡先(国内) 【可】 
希望譲渡先(国外) 【可】 
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 応相談
希望譲渡先(国内) 【可】応相談
希望譲渡先(国外) 【可】応相談

登録者情報

技術供与

ノウハウ提供レベル
量産仕様の提供 【否】
特殊仕様の提供 【否】
技術指導 【否】
技術指導料 【不要】 

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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