基板加熱装置および基板処理システム
- 開放特許情報番号
- L2024000969
- 開放特許情報登録日
- 2024/5/1
- 最新更新日
- 2024/5/1
基本情報
| 出願番号 | 特願2020-151778 | ||||||
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| 出願日 | 2020/9/10 | ||||||
| 出願人 | 東京応化工業株式会社 | ||||||
| 公開番号 | |||||||
| 公開日 | 2022/3/23 | ||||||
| 発明の名称 | 基板加熱装置および基板処理システム | ||||||
| 技術分野 | 機械・加工、有機材料 | ||||||
| 機能 | 加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造 | ||||||
| 適用製品 | 基板加熱装置 | ||||||
| 目的 | 基板加熱装置のチャンバの変形や劣化の抑制及び基板加熱時の安定性向上 | ||||||
| 効果 | 基板加熱装置のチャンバの変形や劣化の抑制及び基板加熱時の安定性向上 | ||||||
| 技術概要 |
基板を収容可能なチャンバと、収容空間の赤外線での基板加熱部と、チャンバの内面と基板加熱部との間に設けられ、赤外線を吸収し、かつ、１ｍｍ以下の厚みを有する遮熱板と、を含む基板加熱装置により、チャンバの変形や劣化を抑制するとともに、基板加熱時の安定性を向上させる。 | ||||||
| 実施実績 | 【無】 | ||||||
| 許諾実績 | 【無】 | ||||||
| 特許権譲渡 | 【可】
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| 特許権実施許諾 | 【可】
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登録者情報
| 登録者名称 | |
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技術供与
| ノウハウ提供レベル |
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| 技術指導 | 【否】
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その他の情報
| 関連特許 |
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