基板加熱装置および基板処理システム
- 開放特許情報番号
- L2024000968
- 開放特許情報登録日
- 2024/5/1
- 最新更新日
- 2024/5/1
基本情報
| 出願番号 | 特願2019-022711 | ||||||
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| 出願日 | 2019/2/12 | ||||||
| 出願人 | 東京応化工業株式会社 | ||||||
| 公開番号 | |||||||
| 公開日 | 2020/8/27 | ||||||
| 登録番号 | |||||||
| 特許権者 | 東京応化工業株式会社 | ||||||
| 発明の名称 | 基板加熱装置および基板処理システム | ||||||
| 技術分野 | 機械・加工、金属材料 | ||||||
| 機能 | 加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造 | ||||||
| 適用製品 | 基板加熱装置 | ||||||
| 目的 | 基板加熱装置検知部への昇華物付着抑制 | ||||||
| 効果 | 基板加熱装置の検知部への昇華物の付着を抑制 | ||||||
| 技術概要 |
基板を収容可能なチャンバと、基板の一方及び他方面側の少なくとも一方に配置される赤外線での基板加熱部と、少なくとも一部が基板収容空間に配置され、回転体での移動機構を備える検知部と、基板収容空間の検知部の保護部材と、を含む基板加熱装置により、検知部への昇華物付着を抑制する。 | ||||||
| 実施実績 | 【無】 | ||||||
| 許諾実績 | 【無】 | ||||||
| 特許権譲渡 | 【可】
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| 特許権実施許諾 | 【可】
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登録者情報
| 登録者名称 | |
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技術供与
| ノウハウ提供レベル |
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その他の情報
| 関連特許 |
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