基板加熱装置および基板処理システム

開放特許情報番号

L2024000967

開放特許情報登録日

2024/5/1

最新更新日

2024/5/1

基本情報

出願番号	特願2018-153499
出願日	2018/8/17
出願人	東京応化工業株式会社
公開番号	特開2020-027919
公開日	2020/2/20
登録番号	特許第7178823号
特許権者	東京応化工業株式会社
発明の名称	基板加熱装置および基板処理システム
技術分野	機械・加工、有機材料
機能	加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造
適用製品	基板加熱装置
目的	基板加熱装置の基板加熱温度自由化、チャンバ内部への昇華物付着抑制
効果	基板加熱温度自由化、チャンバ内部への昇華物付着抑制
技術概要	溶液を塗布した基板を収容可能なチャンバと、基板収容空間の赤外線による基板加熱部と、溶液塗布面とチャンバの塗布対向面との間に配置された天板ガラスと、上方に開放するガラス周壁及びガラス隔壁と、を含む基板加熱装置により、基板の加熱温度が制限されにくくし、チャンバ内部への昇華物付着を抑制する。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【可】 希望譲渡先（国内） 【可】  希望譲渡先（国外） 【可】
特許権実施許諾	【可】 実施権条件 応相談

登録者情報

登録者名称	東京応化工業株式会社

技術供与

ノウハウ提供レベル	量産仕様の提供 【否】 特殊仕様の提供 【否】

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】