基板加熱装置および基板処理システム
- 開放特許情報番号
- L2024000967
- 開放特許情報登録日
- 2024/5/1
- 最新更新日
- 2024/5/1
基本情報
出願番号 | 特願2018-153499 | ||||
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出願日 | 2018/8/17 | ||||
出願人 | 東京応化工業株式会社 | ||||
公開番号 | |||||
公開日 | 2020/2/20 | ||||
登録番号 | |||||
特許権者 | 東京応化工業株式会社 | ||||
発明の名称 | 基板加熱装置および基板処理システム | ||||
技術分野 | 機械・加工、有機材料 | ||||
機能 | 加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造 | ||||
適用製品 | 基板加熱装置 | ||||
目的 | 基板加熱装置の基板加熱温度自由化、チャンバ内部への昇華物付着抑制 | ||||
効果 | 基板加熱温度自由化、チャンバ内部への昇華物付着抑制 | ||||
技術概要 |
溶液を塗布した基板を収容可能なチャンバと、基板収容空間の赤外線による基板加熱部と、溶液塗布面とチャンバの塗布対向面との間に配置された天板ガラスと、上方に開放するガラス周壁及びガラス隔壁と、を含む基板加熱装置により、基板の加熱温度が制限されにくくし、チャンバ内部への昇華物付着を抑制する。 | ||||
実施実績 | 【無】 | ||||
許諾実績 | 【無】 | ||||
特許権譲渡 | 【可】
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特許権実施許諾 | 【可】
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登録者情報
登録者名称 | |
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技術供与
ノウハウ提供レベル |
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その他の情報
関連特許 |
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