基板加熱装置及びポリイミド膜の製造方法
- 開放特許情報番号
- L2024000963
- 開放特許情報登録日
- 2024/5/1
- 最新更新日
- 2024/5/1
基本情報
| 出願番号 | 特願2018-242542 | ||||||
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| 出願日 | 2016/8/30 | ||||||
| 出願人 | 東京応化工業株式会社 | ||||||
| 公開番号 | |||||||
| 公開日 | 2019/6/6 | ||||||
| 登録番号 | |||||||
| 特許権者 | 東京応化工業株式会社 | ||||||
| 発明の名称 | 基板加熱装置及びポリイミド膜の製造方法 | ||||||
| 技術分野 | 機械・加工、有機材料 | ||||||
| 機能 | 加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造 | ||||||
| 適用製品 | 基板加熱装置 | ||||||
| 目的 | 基板加熱装置の赤外線ヒータの温度分布バランス向上 | ||||||
| 効果 | 基板加熱装置の赤外線ヒータの温度分布バランス向上 | ||||||
| 技術概要 |
溶液を塗布した基板の収容空間の減圧部と、外方に凸をなすように複数箇所で折り曲げられた管状のベンド部を外方から覆うように配置されたカバー部を含む赤外線ヒータと、基板の複数地点の温度検知部と、を含む、基板加熱装置において、赤外線ヒータの温度分布のバランスを向上する。 | ||||||
| 実施実績 | 【無】 | ||||||
| 許諾実績 | 【無】 | ||||||
| 特許権譲渡 | 【可】
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| 特許権実施許諾 | 【可】
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登録者情報
| 登録者名称 | |
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技術供与
| ノウハウ提供レベル |
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その他の情報
| 関連特許 |
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