| 出願番号 |
特願2016-167793 |
| 出願日 |
2016/8/30 |
| 出願人 |
東京応化工業株式会社 |
| 公開番号 |
特開2018-037191 |
| 公開日 |
2018/3/8 |
| 登録番号 |
特許第6757629号 |
| 特許権者 |
東京応化工業株式会社 |
| 発明の名称 |
基板加熱装置、基板加熱方法及び赤外線ヒータ |
| 技術分野 |
機械・加工、有機材料 |
| 機能 |
加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
基板加熱装置 |
| 目的 |
基板加熱装置の赤外線ヒータの温度分布バランス向上 |
| 効果 |
基板加熱装置の赤外線ヒータの温度分布バランス向上 |
技術概要
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溶液を塗布した基板の収容空間の雰囲気の減圧部と、基板を赤外線によって加熱可能な赤外線ヒータと、を含み、赤外線ヒータは、複数箇所で折り曲げられた管状をなすとともに、外方に凸をなすように折り曲げられたベンド部と、ベンド部の少なくとも一部を外方から覆うように配置されたカバー部と、を含む基板加熱装置。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
| 希望譲渡先（国内） |
【可】 |
| 希望譲渡先（国外） |
【可】 |
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| 特許権実施許諾 |
【可】
| 実施権条件 |
応相談 |
| 希望譲渡先（国内） |
【可】 |
| 希望譲渡先（国外） |
【可】 |
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